Wir freu­en uns, auch in die­sem Jahr wie­der Teil der SEMICON Japan zu sein! Vom 17. bis 19. Dezem­ber 2025 prä­sen­tie­ren wir uns am Gemein­schafts­stand SAXONY! im Tokyo Big Sight Kon­gress­zen­trum (West Hall, Stand W1007).

Besu­chen Sie uns und erfah­ren Sie mehr über unse­re nach­hal­ti­gen Lösun­gen für sau­be­re Luft und sau­be­res Was­ser in der Halb­lei­ter­indus­trie. Gemein­sam mit unse­ren Part­nern aus Sach­sen zei­gen wir, wie inno­va­ti­ve Umwelt­tech­no­lo­gien zur Zukunfts­fä­hig­keit der glo­ba­len Chip­pro­duk­ti­on beitragen.

Wir freu­en uns auf den Aus­tausch mit Ihnen in Tokio!

Pro­dukt­high­lights auf einen Blick:

• SALIX: Die SALIX wur­de spe­zi­ell für die Anfor­de­run­gen bei nass­che­mi­schen Rei­ni­gungs­pro­zes­sen (Wet Clean Tech­no­lo­gy) in der Halb­lei­ter­indus­trie ent­wi­ckelt. Das Wäscher Sys­tem (Scrub­ber) ent­sorgt u. a. zuver­läs­sig Iso­pro­pyl­al­ko­ho­le (IPA), Ammo­ni­ak und Flu­or­was­ser­stoff aus den Abgas­strö­men moder­ner „sin­gle wafer clean“ Anlagen.
• OTTELIA: Die inno­va­ti­ve Abwas­ser­be­hand­lungs­an­la­ge ent­fernt am Point-of-Use u. a. Sili­zi­um­di­oxid-Par­ti­kel (SiO2), wel­che ins­be­son­de­re bei nass­che­mi­schen Rei­ni­gungs- und Ätz­pro­zes­sen in der Halb­lei­ter­fer­ti­gung ent­ste­hen.

Nut­zen Sie die­se Gele­gen­heit und kom­men Sie vorbei.