用於半導體產業的高效率廢氣處理和水處理
30 多年來，達思 DAS EE 一直都是使用端 (Point-of-Use) 減排技術的專家。無論是我們在製程廢氣減排方面或是整個水處理領域的豐富專業知識，雙雙獲得客戶的高度評價。
在高科技產業的許多生產製程中，如蝕刻、CVD 和磊晶製程，都會使用關鍵氣體，並產生需要直接處理的廢氣。這些廢氣被認為是溫室氣體，具有毒性和／或高度易燃性，通常會對生產設施和環境造成嚴重的威脅。
將不同的氣體混合並輸送到晶圓廠的中央廢氣系統後，夾帶的顆粒可能會堵塞輸送管道。
此外，還可能產生高度易燃性或易爆性的混合氣體，在極端情況下已導致整個生產設施徹底毀損。
為了消除這一威脅，達思 DAS 開發出直接在源點（使用端 (Point-of-Use)）處理廢氣的系統 — 燃燒／濕式系統、濕式水洗器和靜電過濾器。由此產生的無顆粒、無害的混合氣體，即可透過排氣管釋出。我們還負責處理水洗液，並可視需要對蝕刻和研磨等濕式製程產生的廢水進行處理。
有害的製程氣體需要現代化的廢氣解決方案
在半導體產業中使用各種製程氣體。如果處理不當，這些氣體可能會對生產設施、員工和環境造成威脅。達思 DAS 解決方案高效率、全自動化並由感測器控制，可實現最佳減排效果。
晶圓製造流程
- 磊晶
- 化學氣相沉積 (CVD)
- 蝕刻
- 化學機械拋光 (CMP)
- 濕式淨化
- 化學氣相沉積 (CVD)
- 晶圓切割
用於廢氣處理的靈活使用端 (Point-of-Use) 解決方案
自 1991 年以來，由達思 DAS Environmental Expert GmbH 開發製造的 使用端廢氣處理解決方案 (point-of-use) 已經成功完成這項任務。達思 DAS 設備幾乎可用於晶片工業的所有現代鍍膜和蝕刻設備。廢氣經安全環保的方式處理，並符合法規要求。達思 DAS 技術採用靈活整合的產品概念。最小的設備可安裝在占地面積不到 1 平方米的壁櫥中。達思 DAS 技術為全自動化並由感測器控制，符合最高安全認證標準。
從廢水處理到資源回收
在半導體產業中，各種生產和清潔製程以及後續的廢氣處理都會產生廢水。達思 DAS 是處理此類廢水的專家。無論您是想升級現有的廢水處理系統，還是規劃新建的廢水處理設備，我們的專家都將與您合作，開發量身訂製的解決方案，不僅要符合您的需求，更要超越您的期望。
集中式、半集中式和使用端 (Point-of-Use) 系統
每位客戶對廢水處理設備都有不同的要求。這些因為對汙水處理設備的設計、技術、地點和規模都有重大影響。我們提供集中式、半集中式和使用端 (Point-of-Use) 系統，讓客戶能夠選擇最適合其特定需求的方法。此外，我們的系統零組件採用模組化設計，這意味著達思 DAS EE 汙水處理設備在很大程度上可以預製，並以方便安裝的方式運送到使用地點。
我們為半導體產業提供的產品組合包括
- 依化學需氧量 (COD) 和生化需氧量 (BOD) 測量結果，去除廢水中的有機汙染物
- 去除重金屬或其他有毒化合物
- 化學機械拋光／研磨 (CMP) 的廢水處理
矽廢料處理
- 含氟、含砷的廢水處理及精處理
- 異丙醇 (IPA) 或其他揮發性有機化合物 (VOC) 的處理
- 處理後廢水的再利用（水循環）
- 從廢水中回收再利用有價金屬
半導體製造商通過聯合式廢氣和廢水處理，可實現環保生產
DAS EE 為半導體製造商提供全面周到的產品組合。多年來，我們透過廢氣處理和水處理系統，確保晶片生產與人類和環境保護的高要求並行不悖。我們對純度、可靠性和安全性的最高要求相當熟捻，因為自公司成立以來，半導體產業的公司一直是我們最重要的客戶之一。
永續發展目標
我們支持高科技產業落實永續發展和綠色生產，符合聯合國教科文組織所訂定的永續發展目標。
