用於 TFT 產業的可靠廢氣處理
TFT/LCD 產業生產製程中產生的廢氣含有矽烷 SiH4、氨 NH3 和氮氧化物 N2O 等製程氣體的殘留物。其中若干物質具有高腐蝕性、高毒性或高度易燃性，需要在使用端 (Point-of-Use) 進行處理。達思 DAS 為客戶提供用於特定廢氣處理問題的可靠解決方案。
利用達思 DAS 的廢氣處理系統安全生產 TFT
製造 TFT/LCD 顯示器需要進行廢氣處理。舉例來說，在玻璃基板上生產大規模薄膜電晶體 (TFT) 的各個製程，是使用化學氣相沉積 (CVD) 讓薄膜單獨形成在材料上。該製程需要定期清潔製程室，通常使用 NF3進行蝕刻。不同薄膜的蝕刻通常使用 CF4、SF6 和氯化氣體，這會釋放出大量混合廢氣，可透過燃燒／濕式系統或靜電過濾器進行處理。
達思 DAS Environmental Expert 設計的系統可直接在源點（使用端 (Point-of-Use)）淨化製程廢氣，並可靠地去除有害物質。達思 DAS 專門為 TFT/LCD 產業開發了解決方案，大量廢氣得到安全的處理，並符合法規要求。
有害廢氣的安全處理
TFT/LCD 產業生產製程中產生的廢氣含有矽烷 SiH4、氨 NH3 和氮氧化物 N2O 等製程氣體的殘留物。這些廢氣對環境和生產設施的安全都會構成重大威脅。在工廠的中央廢氣系統中混合不同的廢氣，通常會產生高度易燃性或高度爆炸性的混合氣體，這會造成嚴重的安全隱患，因此在任何時候都必須避免。腐蝕性氣體還會加速泵、閥門和管線的腐蝕，進一步危及設施的安全。而廢氣流中所含的小顆粒可能會沉積並堵塞管道，導致維護工作增加，甚至使生產完全停擺。
達思 DAS 廢氣減排技術是一種靈活的整合系統概念。我們最小的設備可安裝在占地面積不到 1 平方米的櫥櫃中。達思 DAS 技術為全自動化並由感測器控制，符合最高安全認證標準。
