SALIX - Single-Wafer Cleaning 공정에서 오염 물질 제거
SALIX 가스 스크러버는 반도체 산업에서 wet chemical cleaning 공정(wet clean technology)에 대한 새로운 요구 사항을 충족하기 위해 개발되었습니다.
SALIX – Switching box를 대체하는 컴팩트하고 유연한 솔루션
SALIX는 Switching box 사용의 대안으로 개발되었습니다. Switching box 방식과 비교할 때, 폐가스 배관이 더 작고 단순하며, 설치 면적이 작고, 공정 변경에 대한 유연성이 높다는 장점이 있습니다. 자세한 내용은 반도체 산업의 Wet bench 공정 사례 연구에서 확인할 수 있습니다.
SALIX – Wet Cleaning 공정을 위한 Point-of-Use 폐가스 처리
SALIX – Chemical wet cleaning 공정용 폐가스 처리
SALIX 제품군은 고유량의 chemical wet cleaning 공정에서 현장 폐가스를 처리할 수 있는 컴팩트하고 고성능의 시스템으로 구성되어 있습니다. 이 솔루션은 알코올, 수용성 용제, 산, 암모니아 등 수용성 기체 화합물을 효율적으로 제거하도록 특별히 설계되었으며, 폐가스 흐름에서 입자, 염류, 액적을 신뢰성 있게 분리할 수 있습니다.
주요 적용 분야는 Single-wafer wet cleaning 공정으로, 안정적이고 깨끗한 배출 공기 상태가 필수적입니다. SALIX 시스템은 1년 이상 유지보수 주기를 가능하게 설계되어, 높은 시스템 가용성을 보장합니다.
제품군에는 SALIX 3.0, SALIX 2.x, SALIX MINI, SALIX MICRO가 포함되어 있으며, 공간 제약, 공정 요구 사항 및 통합 조건에 따라 최적의 성능을 제공하는 단계별 솔루션을 제공합니다.
SALIX로 폐가스 처리를 최적화하세요.
이 시스템은 Single wafer clean 장비에서 발생하는 폐가스의 아이소프로필 알코올(IPA), 암모니아 및 불화수소(HF)를 안전하게 처리합니다.
SALIX – 기술 사양 및 구성 옵션
SALIX (wet)
폐가스는 최대 12개의 독립 인렛을 통해 Pre-Scrubber로 공급되며, 분사 노즐을 통해 유입되어 막힘을 방지합니다. 폐가스는 첫 번째 세정 단계로 이동하여, 패킹 재질로 채워진 세정 컬럼을 통해 상향 흐름으로 이동합니다. 세정액은 분사 노즐을 통해 컬럼에 공급되며, 패킹 재질의 넓은 표면적과 역류 원리 덕분에 폐가스를 최적의 효율로 흡수할 수 있습니다.
두 번째 단계에서는 다른 세정액이 사용되며, Demister가 두 단계 세정액이 섞이지 않도록 방지합니다. 두 번째 세정액을 통해 대체 화학물 사용이 가능하며, 폐가스 세정을 최적화할 수 있습니다. 첫 번째 세정 단계에서 반응하지 않은 성분들은 두 번째 세정 단계에서 보다 효율적으로 흡수됩니다. 마지막으로 demister에서 잔류 수분이 제거된 폐가스는 독일 대기오염법(TA Luft)의 엄격한 기준을 충족합니다.
