OTTELIA によるポイント・オブ・ユース（POU）排水処理
半導体プロセス排水における高効率粒子除去ソリューション
OTTELIA：クリーンな生産プロセスを実現する革新的排水処理
高効率。高信頼。クリーン。
OTTELIA は、半導体製造における湿式化学洗浄およびエッチング工程から発生するプロセス排水中の二酸化ケイ素（SiO₂）粒子を除去する革新的な排水処理ソリューションです。
極微細な粒子まで確実に除去し、処理水の安全な再利用を可能にすることで、排ガス浄化工程における水循環を支えます。
その名称は、水を自然に浄化する力を持つ水生植物「オテリア」に由来しています。
自然の自浄作用を技術的に応用し、水をインテリジェントかつ持続可能な形で循環させるという理念を象徴しています。
クリーンな未来のための資源効率型排水処理
OTTELIA は、コンパクトな設計、高い分離性能、柔軟なスケーラビリティを融合し、最大限の効率性と資源保全を実現します。
信頼を生むテクノロジー
多段階洗浄プロセスにより、15μm以上の粒子はラメラセパレーターで効率的に分離されます。その後、ファインフィルターが残留する微細粒子を除去します。
処理水はアベートメントシステムへ再利用され、生産プロセスの持続可能なリサイクルを実現します。分離された固形物はスラッジタンクに回収され、適切に廃棄されます。
拡張可能｜組立済み｜即稼働
OTTELIAのタンク容量は、水量に応じて柔軟に調整可能で、さまざまな用途において高いプロセス信頼性を実現します。
システムはDAS拠点で事前組立・品質検査を実施後、プラグアンドプレイ方式でお客様の現場に設置します。迅速・確実・経済的に導入できます。
排水処理の効率を最大化
導入メリット
流量や粒子サイズに柔軟に対応
コンパクトなプラグアンドプレイユニット
高いシステム効率により、処理水の直接再利用が可能
プロセス信頼性を確保
制御・計測技術を統合
上水使用量および排水量を削減
半導体製造における持続可能な水管理に貢献
OTTELIA の概要
製品紹介
