半導體產業廢水處理永續解決方案

鑑於全球水資源短缺，半導體工廠的水資源管理至關重要。全球水資源中僅不到 3% 為淡水，而其中大部分已受到污染與過度使用的影響。作為重要用水產業，半導體產業面臨優化用水需求的挑戰。對半導體工廠而言，創新的廢水處理技術與環保的水處理設施，對減輕淡水資源負擔具有關鍵作用。

DAS Environmental Experts 開發永續的水處理系統，以因應工業對潔淨水日益增加的需求，同時有助於保護全球水資源。透過在半導體生產中採用創新的水資源再利用技術，企業能顯著降低新鮮水的使用量。我們的工業廢水處理解決方案可協助半導體工廠建立完整的水資源循環，確保對這一重要資源的永續管理。

過濾是一種利用機械方法將液體中的固體分離的製程。在半導體產業中，特別適合使用膜過濾，包括微濾、超濾、奈米濾與逆滲透，可有效截留特定尺寸的顆粒與分子。此方法也可去除膠體物質及細菌，並對水進行脫鹽處理。

氣浮透過投加凝聚劑（如硫酸鋁或氯化鐵）及絮凝劑，將分散或懸浮的微小顆粒從液體中移除。此製程能有效去除來自其他處理階段（如 MBBR 活性污泥分離）的固體污染物，為後續水處理工序做好準備。

沉降是一種利用重力在淺、幾乎無流動的池中分離固體顆粒的製程。容器通常依停留時間設計，也就是水必須在容器中停留至顆粒沉降為止。依顆粒大小不同，沉降是一種可靠、低能耗且簡單的固體分離方法。透過斜板沉澱池，可進一步優化空間利用。

氧化製程可用於去除生物難降解的有機污染物，特別是利用紫外光產生的羥基自由基，配合過氧化氫或臭氧進行光化學淨化（AOP）。該方法亦能分解重金屬絡合物。

吸附是物質透過范德瓦耳斯力富集於固體表面。活性碳吸附劑可將多種物質結合到其多孔表面，有效去除有機污染物（如 PFAS）及其他溶解物質。掺雜活性碳與氫氧化鐵顆粒則用於去除砷與重金屬。化學吸附則是透過化學鍵將物質結合於表面，通常為不可逆。

中和用於調整 pH 值，特別是在沉澱或絮凝等製程後，可依需求投加酸或鹼。亦可在生物處理前使用，以維持中性 pH，避免破壞微生物。

化學沉澱是一種化學製程，用於從溶液中去除溶解的物質。可透過投加適當物質將重金屬轉化為難溶的金屬氫氧化物沉澱。陰離子（如氟離子）可與鈣鹽、鐵鹽或鋁鹽反應沉澱。鐵鹽與鋁鹽亦可用於磷的沉澱。

絮凝用於去除水中懸浮或膠體微粒。透過投加絮凝劑與助凝劑，使微粒聚集形成較大絮體，加速沉降，提高剩餘物的沉降與脫水效率。

離子交換劑是一種能夠用其他離子置換溶液中離子的材料。例如，鈣離子可以被鈉離子取代。當離子交換劑失效時，必須進行再生。離子交換劑可用於針對性地去除重金屬和離子，例如在沉澱/絮凝後用作「過濾層」。它們也用於水的軟化、再鹽化和脫鹽。在半導體產業，它們對於生產超純水（去離子水）至關重要。