達思DAS Environmental Expert提供高科技產業安全的廢氣處理設備

高科技產品的生產，如微晶片、太陽光電模組、平面顯示器和LED(Light Emitting Diodes)都需要極複雜且多工的製程。每一個生產步驟都會產生廢氣，而這些廢氣皆須直接在使用端(Point-of-Use)減排。

可靠的使用端(Point-of-Use)廢氣處理設備

 

DAS環保專家的廢氣處理系統會依客戶調整，各具有獨特性。目前我們所提供的廢氣減排技術有以下四種: 將燃燒及水洗組合在一個廢氣處理系統中，是達思DAS Environmental Expert的專業技術。ESCAPE機台和STYRAX系統即是屬於此產品事業群。  LARCH產品系列可處理含有大量氫氣的製程廢氣 AQUABATE產品系列的廢氣處理設備，及SALIX 廢氣處理設備可洗掉製程廢氣產生的有害水溶性物質。 EDC產品系列的靜電集塵系統，利用電場從廢氣中去除微粒子(微粒及奈米

微粒)。JUNIPER系列的電場冷凝式分離器也利用相同的原理，從廢氣流中攔截揮發性有機化合物(Volatile Organic Compounds,VOCs)。達思DAS Environmental Expert培養與客戶間的緊密合作。我們提供有效益、可靠且安全的廢氣減排程序，同時也研發並強化系統。當客戶的技術改變時，我們也將隨之調整廢氣處理技術，以符合客戶的需求。

CVD/MOCVD製程

化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition, CVD) 為沉積薄膜到基板上的程序。薄膜先前是以氣體的形式存在，後來經薄膜組件間的化學反應合成。當來源物質是金屬有機化合物，這個程序即稱為金屬有機氣相沈積(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD)。

CVD製程在半導體產業是用來生產含有多種金屬、氮化矽、二氧化矽和多晶矽成分的合成薄膜，而此製程中最常使用的氣體為矽烷、氨、四乙氧基矽烷(tetraethyl orthosilicate,TEOS)和三氟化氮。達思DAS Environmental Expert 的 UPTIMUM和STYRAX產品系列即為針對CVD程序的廢氣處理而設計。

MOCVD製程用於半導體產業和LED生產，其產生的廢氣通常含有氫和氨。達思DAS Environmental Expert研發了使用端(Point-of-Use)系統: LARCH，以專門處理大量製程氣體

TCO製程

近年來透明導電氧化物(Transparent Conductive Oxides, TCO)大幅提升其經濟顯著性。半透明薄膜對於平面螢幕及薄膜太陽能是相當重要的構件。而薄膜的生產需經過加熱蒸鍍或特定的CVD製程。從這些製程所製造的大量廢氣可從搭配燃燒洗滌技術的UPTIMUM系統於使用端(Point-of-Use)直接減排。

Etching 蝕刻製程

蝕刻製程以腐蝕物質削磨表面材質。因為高精密的特性，這個製程專門用在半導體產業和微機電系統(Micro Electrical Mechanical System, MEMS)製造業。不能削磨的結構則透過特別的光阻劑用化學蝕刻法保護。晶片製造產業會使用濕式化學製程及乾式蝕刻製程，例如電漿蝕刻法和反應離子蝕刻。從這些製程所產生的廢氣通常含有多樣的氟化合物。達思DAS Environmental Expert  ESCAPE和STYRAX產品系列的燃燒水洗滌技術即可有效的處理這些製程廢氣。

Epitaxy 磊晶製程

半導體產業透過磊晶製程，沉積晶體膜或將其覆蓋在載體基板上。這些層的特點是其高純度及可以比一般參雜方法參雜更高精密度。這些膜不是透過特定的化學和物理氣相沈積製程製造，就是化學物理複合製程或液相磊晶製造。這些製程產生的廢氣可能包含氫、二氯矽烷和鍺烷。達思DAS Environmental Expert AQUABATE產品系列的洗滌式廢氣處理設備和ESCAPE及STYRAX系列的燃燒式廢氣處理設備可分別處理不同廢氣的成分，並均可提供安全且可靠的減排選擇。

Wafer Cleaning 晶圓清洗製程

按照生產流程，半導體晶片的製程中需經過晶圓清洗。而完成晶片生產，尤其是300mm晶圓，都需經過單晶圓清洗。此步驟會將單晶圓快速旋轉，接著再透過洗劑將之弄濕

依造晶圓的雜質會使用不同的清潔程序和酸性或鹼性化學品或溶劑，像是丙酮、乙醇和異丙醇。在清潔步驟後，會用超純水沖洗磁碟。之後，晶圓會在無殘留物的狀況下乾燥

在製程中使用的清潔設備產生的氣體包含了氣體或滴液殘留物。達思DAS Environmental Expert 的 SALIX便提供了真空並處理此類汙染物的可靠系統。

揮發性有機化合物(VOC)

在室溫就蒸發為氣體的含碳化合物，稱為揮發性有機化合物(Volatile Organic Compounds,VOCs)。半導體與太陽能產業皆透過此種物質來作為輔助材料。VOC通常有異味、具毒性並對環境有害。

VOC排放可能會導致製造工廠的傷害。當排氣系統冷凝處理VOC時，冷凝液可能會滲漏而危害員工的健康，或甚至流回生產系統而導致起火。達思DAS Environmental Expert 所設計的JUNIPER系統可避免此風險，並且安全的移除生產工廠排氣中的碳氫化合物。

Particulate Matter 懸浮微粒

很多廢氣減排都需要經過除塵程序。廢氣中的粉塵是非常細微的固體粒子，揚起後會長期懸浮在空氣中。直徑超過十微米的粒子即被稱為是粗粒粉塵，並易滯留於鼻毛或鼻咽腔黏膜。直徑小於十微米(PM10)，即稱為懸浮微粒，人類吸入之後，會透過氣管和支氣管直達肺部深處。

小於2.5微米的粒子即稱為微粒子(PM2.5)。小於0.1微米即稱為超細微粒。懸浮微粒包含PM10、PM2.5以及超細微粒，是非常難處理的，因為微粒可從氣體洗滌器和分離器排出，不會被洗劑攔截。

達思DAS Environmental Expert研發出靜電式集塵系統 EDC產品系列，即針對捕捉懸浮微粒而設計。半導體、太陽能和平板螢幕產業皆運用了EDC系統，該系統並符合LED製造的環境法規，例如關於砷的法律規定和極低排放限制。