使用端廢氣處理裝置 ESCAPE DUO (燃燒/水洗式）
適用於半導體和太陽能製程的整合型高效廢氣處理設備
ESCAPE DUO——適用於安全、高效處理製程廢氣的模組化燃燒/水洗式Scrubber
廢氣處理
ESCAPE 產品系列是我們使用端(Point-of-Use)燃燒式Scrubber技術的基礎，該技術已在市場上證明其價值超過 25 年。這套廢氣處理系統應用極具彈性且可客製化，能處理半導體產業中產生的幾乎所有製程氣體。
節省空間的系統無需特殊工具即可輕鬆維護。選配的製程連動功能可提升安全性並降低營運成本——實現高效可靠的廢氣處理，直接在使用端完成處理。
以ESCAPE DUO高效處理產業製程
製造晶片、太陽能模組、平面顯示器及LED等高性能科技產品，涉及高度複雜的多階段生產製程。這些製程在各個子步驟中都會產生廢氣，這些廢氣必須在使用端直接處理。
CVD - 化學氣相沉積
在化學氣相沉積(CVD)過程中，化學反應會在基層上形成薄層，例如氮化矽或多晶矽。
為了確保這些 CVD 和 MOCVD 製程的廢氣安全處理，DAS Environmental Experts 提供高效能的處理系統，例如 ESCAPE、UPTIMUM、STYRAX 和 LARCH。
Etch - 蝕刻
蝕刻（Etching）是使用化學物質有針對性地去除材料的過程，例如在半導體製造中。DAS Environmental Experts 使用基於燃燒式Scrubber的 ESCAPE 和 STYRAX 系統，可靠地處理蝕刻過程中產生的含氟廢氣。
燃燒式Scrubber技術，實現安全的廢氣處理
DAS Environmental Experts推出的整合型燃燒/水洗式組合系統，奠基於數十年廢氣處理的豐富經驗。根據氣體成分的不同，處理氣體會在配備燃燒器的反應器中進行氧化、還原或熱解。隨後的水洗式洗滌製程能可靠地冷卻並吸附生成的化合物。根據所選用的 DAS 減排系統，製程設計可能有所不同。
這項「使用端處理」技術能安全且高效地處理工業廢氣——包括含有氟化合物、氨、矽烷或氫氣的廢氣——並已廣泛應用於全球半導體產業。
使用 ESCAPE DUO 優化廢氣處理
請選擇可靠的燃燒式Scrubber處理技術——可根據您的生產需求進行個別配置
