SALIX - 清除單晶圓清洗製程中的污染物
SALIX 廢氣Scrubber 是為了滿足半導體產業對濕式化學清洗製程（水洗式清洗技術）的新要求而開發的。
SALIX – 取代酸鹼排氣切換箱的整合式靈活解決方案
SALIX 的開發旨在取代傳統的酸鹼排氣切換箱。與酸鹼排氣切換箱相比，其優勢在於更小巧、更簡單的排氣管路、更小的佔地面積以及更高的製程變更靈活性。更多詳情請參閱我們關於半導體產業濕式蝕刻(wet bench)製程案例分享。
SALIX - 用於水洗式清洗製程的使用端廢氣處理
SALIX - 用於水洗式清洗製程的使用端廢氣處理
SALIX 產品系列包括整合型高性能系統，專為高氣體處理量的化學濕式清洗過程中的局部廢氣處理而設計。此系列解決方案專為高效去除水溶性氣態化合物（例如醇類、水溶性溶劑、酸和氨）而設計。此外，它們還能可靠地從廢氣流中分離顆粒、鹽類和液滴。
典型應用領域為單晶圓濕式清洗製程，在這些製程中，穩定潔淨的廢氣環境至關重要。 SALIX 系統設計可實現長達一年以上的維護週期，從而確保系統的高可用性。
該產品系列包括 SALIX、SALIX MINI 和 SALIX MICRO——根據空間需求、製程要求和整合程度，提供在最小空間內實現最佳性能的分級解決方案。
使用 SALIX 優化您的廢氣處理
該系統能夠可靠地處理單晶圓清洗設備產生的廢氣中的異丙醇 (IPA)、氨氣和氟化氫。
SALIX - 技術規格和選配方案
SALIX (水洗式)
廢氣經由多達十二個獨立進氣口輸送至Scrubber，採用噴嘴設計可徹底消除進氣口堵塞問題。廢氣進入第一級Scrubber，向上流經裝滿填料的第一級Scrubber。洗滌液透過噴嘴注入Scrubber內。由於填料表面積大且採用逆流原理，廢氣能得到最佳吸收。
第二階段採用不同洗滌液，並設置除霧器防止兩階段液體混合。第二洗滌液可運用替代化學配方，從而優化廢氣處理效果。未於第一洗滌階段反應的廢氣成分，可在第二階段獲得更徹底的吸收。除霧器去除氣流中的殘留水分後，排放氣體符合德國空氣污染法規（TA Luft）的嚴格標準。
