高科技製造業的廢氣處理系統

我們在半導體/MEMS、太陽能光電、平面顯示器和LED產業的客戶，可從我們在德勒斯登及全球團隊的廣泛技術專業知識中獲益。我們對客戶製程的詳細了解，意味著我們知道廢氣對製程安全的重要性。我們運用這些專業知識為客戶提供客製化且有效的解決方案。我們為各行各業開發和生產廢氣流量高達 5,000 m³/h 的使用端(Point-of-Use)廢氣處理設備。

如有需要，我們也提供整合式廢氣處理方案，包括在我們的系統中提供您所選擇的真空幫浦或其他組件，例如Dry Bed解決方案。我們也提供不同技術的智慧型組合，以形成完整的系統，完美符合您的製程需求。我們用於使用端(Point-of-Use)廢氣處理的產品組合包括四個技術群組。

燃燒/水洗式系統的整合式組合設計，奠基於DAS EE創立以來持續累積的專業技術。廢氣被導入環形燃燒器，根據化學成分不同，在此發生氧化、還原或熱解等多元反應。隨後，適用的洗滌液將吸收並冷卻產生的可溶性、氣態及固態化合物。此技術實現了廢氣在使用端(Point-of-Use)的直接安全處理，並應用於眾多DAS處理系統中，用以去除氟化合物、氨、矽烷或氫氣等有害物質——例如在半導體產業中的應用。

燃燒/水洗式系統概覽

電漿/水洗式技術是一種創新的廢氣處理方法，對於處理難以分解的污染物（例如 PFC 氣體）特別有效。在電漿/水洗式系統中，直流電會在氮氣載氣中產生電漿。該技術的核心是將高能量傳輸到待處理的廢氣中，從而導致廢氣分解，高效地降解污染物。通過調節功率輸出，該系統可以針對不同的要求和污染物濃度進行最佳配置，從而實現多功能性和高效性。

電漿/水洗式系統概覽

製程廢氣在分解區進行分解。如有需要，可添加燃燒氣體。根據廢氣的化學成分，會發生各種反應，例如氧化、還原或熱分解。

LARCH 系列處理設備專為 LED 和 GaN 行業的 MOCVD 製程而設計。該設備能夠處理大量典型的氫氣和氨氣。

LARCH 產品總覽

DAS 的觸媒催化系統為半導體產業提供了一種先進的解決方案，它利用氨選擇性催化還原 (SCR) 技術，透過高效膜過濾器去除硝化物(DeNox)和懸浮微粒，從而在廢氣後處理方面提供卓越的性能。該催化系統透過回收超過 80% 的製程熱量，確保了極高的還原效率和最低的能耗。憑藉這項先進、可靠且環保的解決方案，您可以領先於環境法規，並實現您的永續發展目標。

TSUGA 產品總覽

微粒分離是廢氣處理的重要一環，可防止管道堵塞和有毒粉塵釋放到環境中。我們的系統可以過濾含有微粒子和納米粒子或含有懸浮微粒的製程廢氣。DAS EE 在這方面採用了不同的分離技術，例如靜電式集塵系統或微粒分離器。此外，我們的設備經過優化，可實現較低的壓力損失，部分系統甚至在清洗過程中產生額外的負壓。

微粒分離器-集塵系統概覽

RDC 系列設備利用離心力分離粉塵微粒。它們基於純機械的轉子-定子原理。轉子像風扇一樣工作，輸送廢氣；因此不會產生壓力損失，甚至還能輔助通常連接的抽吸裝置。

旋風式集塵器概覽