使用端廢水處理系統 - OTTELIA
半導體製程廢水高效微粒去除技術
OTTELIA：創新廢水處理技術，實現清潔生產製程
高效 可靠 潔淨
OTTELIA 是一項創新解決方案，專門用於從製程廢水中去除二氧化矽（SiO2）顆粒——尤其適用於半導體製造中的濕式化學清洗與蝕刻製程。
該系統能可靠地從廢水中清除最微細的微粒，從而為處理後的水安全循環利用創造條件，使其可再次用於廢氣處理。
如同其植物原型，這種熱帶水生植物亦象徵著Ottelia所代表的純淨、適應力與天然淨水能力。其沉水葉片有助於自然水體的自我淨化——此原理正是OTTELIA技術的核心。因此，此名稱象徵著以智慧且永續的方式將水回歸循環的追求。
資源高效的廢水處理，共創潔淨未來
OTTELIA 結合精巧設計、高分離效能與個別擴充性 - 達到最高效率與資源節約。
無庸置疑的技術
在多階段處理製程中，粒徑大於15微米的微粒物首先於斜板沉澱池中高效分離。隨後精細過濾系統將清除殘留的細小微粒。處理後的水可直接回流至處理系統——實現生產流程中的永續循環利用。固體物質則安全收集於污泥槽中，並送往處理場進行處置。
可擴展 預先組裝 隨時可投入運作
OTTELIA 的儲罐容量可靈活適應不同水量需求——在廣泛應用場景中實現最高製程可靠性。
系統於DAS廠區預先組裝，經品質檢測後作為即裝即用系統直接安裝於客戶現場：快速、可靠且經濟實惠。
廢水處理的最高效率
受益於
可適應不同的流量和微粒大小
整合型隨裝即用裝置
高系統效率實現直接水循環利用
確保製程可靠性
整合式控制與測量技術
減少淡水消耗量和廢水量
促進半導體生產中的永續水資源管理
OTTELIA 概覽
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