Brenner-Wäscher-Anlagen zur Abgasreinigung
Die Kombination von Abgasbrenner und Abgaswäscher in einem System auf kleinstem Raum ermöglicht die sichere Entsorgung der Schadgase am Ort ihrer Entstehung (Point-of-Use).
Abgasbehandlung in der Halbleiterindustrie
Die Brenner/Wäscher-Kombination wird in verschiedenen DAS-Anlagen zur Entsorgung sehr unterschiedlicher umweltschädlicher und gefährlicher Abgase eingesetzt. In der Halbleiterindustrie beispielsweise kommen verschiedene Fluor-Verbindungen, Ammoniak, Silan oder Wasserstoff zum Einsatz. Unsere kompakten Anlagen benötigen wenig Platz und sind sehr wartungsfreundlich. Eine Kopplung über das Prozess-Tool-Interface ist sowohl zur Erhöhung der allgemeinen Sicherheit als auch zur Optimierung der Betriebskosten sinnvoll.
Brenner-Wäscher-Technologie für eine sichere Abgasbehandlung
Die kompakte Burn-Wet-Behandlungstechnologie von DAS Environmental Experts basiert auf jahrzehntelanger Erfahrung in der Abgasbehandlung. Je nach Zusammensetzung der Prozessgase werden diese in einem Reaktor mit Brenner thermisch oxidiert, reduziert oder pyrolysiert. Die anschließende Nasswäsche kühlt die entstehenden Reaktionsprodukte zuverlässig ab und bindet sie sicher. Je nach DAS-Abgassystem kann die Auslegung des Verfahrens variieren.
Diese Point-of-Use-Technologie ermöglicht die sichere und effiziente Behandlung industrieller Prozessabgase, einschließlich gasförmiger Emissionen mit Fluorverbindungen, Ammoniak, Silan oder Wasserstoff, und wird weltweit in der Halbleiterindustrie eingesetzt.
STYRAX – Reinigung von Abgasen aus anspruchsvollen CVD-Prozessen
Die STYRAX-Produktlinie bieten wir speziell zur Entsorgung von Abgasen aus anspruchsvollen CVD-Prozessen in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie an. Unsere Applikationsspezialisten konfigurieren die als Brenner-Wäscher-Anlage oder auch Plasma-Wäscher erhältliche Anlage kundenspezifisch. So können Medienversorgung und ‑verbrauch flexibel angepasst werden.
TILIA – Doppelreaktorsystem mit interner Redundanz
TILIA ist eine kompakte Lösung für die sichere Entsorgung pyrophorer, fluorierter und toxischer Prozessgase in der Halbleiter- und Solarindustrie. Durch die Kombination von Verbrennung und Nasswäsche wird eine maximale Abscheideleistung erreicht. Erfahren Sie, wie TILIA mehrere Ihrer herkömmlichen Abgasreinigungssysteme ersetzen kann.
Jenseits von Branchen-Benchmarks: >99,9% DRE für CF4
Die Halbleiterindustrie steht unter zunehmendem Druck, ihre direkten Treibhausgasemissionen zu reduzieren. Tetrafluormethan (CF₄) ist aufgrund seines hohen Treibhauspotenzials und seiner langen atmosphärischen Lebensdauer besonders kritisch.
Der Zerstörungs- und Abscheidegrad (DRE) ist daher ein strategischer Faktor. Während Industriestandards zwischen 95 % und 99 % liegen, reduziert eine DRE von >99,9 % die verbleibenden Emissionen um den Faktor zehn und wird damit zu einem wichtigen Hebel für Dekarbonisierung und Compliance.
CF₄ ist äußerst stabil und erfordert für eine effiziente Zersetzung präzise kontrollierte thermische Bedingungen. Optimierte Burn-Wet-Systeme wie TILIA sind hierfür eine etablierte Lösung.
Hocheffiziente Abgasbehandlung reduziert Emissionen und langfristige Kosten und macht aus einer Compliance-Maßnahme einen strategischen Vorteil.
UPTIMUM – Optimierte Abgasreinigung für eine hohe Verfügbarkeit
Die UPTIMUM-Produktlinie haben wir zur Erhöhung der Uptime (Anlagenverfügbarkeit) spezieller CVD-Prozesse in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie entwickelt. Der Name UPTIMUM basiert auf dem englischen Begriff „Uptime“ und verweist auf die besonders hohe Verfügbarkeit der Brenner/Wäscher-Anlage. Sie ist bei vielen verschiedenen Applikationen einsetzbar.
ESCAPE – Unser Basissystem für Prozessabgasreinigung
Die ESCAPE-Produktlinie ist die Basis unserer Point-of-Use Brenner-Wäscher-Technologie, die sich nun schon seit mehr als 25 Jahren am Markt bewährt. Der Abgaswäscher (burn/wet) wird sehr flexibel und kundenspezifisch zur Reinigung fast aller anfallenden Prozessabgase der Halbleiterindustrie eingesetzt. Neben unterschiedlichen Bauhöhen kann auch die Medienversorgung der Systeme variabel ausgeführt werden.
