SALIX – entfernt Schadstoffe aus Single-Wafer-Clean-Prozessen
Der SALIX-Gaswäscher wurde für neue Anforderungen bei nasschemischen Reinigungsprozessen (Wet Clean Technology) in der Halbleiterindustrie entwickelt.

SALIX – Eine kompakte und flexible Alternative zu Gasumschaltsystemen
SALIX wurde als alternative Lösung zum Ersatz von Gasumschaltsystemen (Switching Boxes) entwickelt. Die grundlegenden Vorteile der Anlage sind dabei vielfältig: kleinere und einfachere Abluftleitungen, geringere Last für die zentralen Abluftsysteme, höhere Flexibilität bei Prozessänderungen und geringere Standfläche. Detaillierte Hintergründe werden in unserer Fallstudie zu Nassbank-Prozessen in der Halbleiterindustrie aufgeführt.

Point-of-Use Abgasbehandlung für chemische Nassreinigungsprozesse
Die SALIX-Produktfamilie umfasst kompakte, leistungsstarke Systeme zur lokalen Abgasbehandlung in chemischen Wet-Clean-Prozessen mit hohen Gasdurchsätzen. Die Lösungen sind speziell darauf ausgelegt, wasserlösliche gasförmige Verbindungen wie Alkohole, wasserlösliche Lösungsmittel, Säuren und Ammoniak effizient zu entfernen. Zudem ermöglichen sie die zuverlässige Abscheidung von Partikeln, Salzen und Tröpfchen aus dem Abgasstrom.
Typische Einsatzbereiche sind Single-Wafer-Wet-Clean-Prozesse, bei denen stabile und saubere Abluftbedingungen entscheidend sind. SALIX-Systeme sind darauf ausgelegt, besonders lange Wartungszyklen von über einem Jahr zu ermöglichen und so eine hohe Anlagenverfügbarkeit sicherzustellen.
Die Produktfamilie umfasst SALIX 3.0, SALIX2.x, SALIX MINI und SALIX MICRO – abgestufte Lösungen, die je nach Platzbedarf, Prozessanforderungen und Integrationsniveau optimale Leistung auf kleinstem Raum bieten.

Optimieren Sie Ihre Abgasreinigung mit SALIX
Entsorgt u. a. zuverlässig Isopropylalkohole (IPA), Ammoniak und Fluorwasserstoff aus den Abgasströmen moderner „single wafer clean“ Anlagen.

